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价格：电议

极限真空度：6X10-5Pa 恢复工作背景真空：7X10-4Pa，30 分钟左右（新设备充干燥氮气）设备总体漏放率：关机 12 小时真空度≤10Pa

多功能磁控溅射仪（高真空磁控溅射仪）是用磁控溅射的方法制备

价格：电议

极限真空度：6X10-5Pa 恢复工作背景真空：7X10-4Pa，30 分钟左右（新设备充干燥氮气）设备总体漏放率：关机 12 小时真空度≤10Pa

多功能磁控溅射仪（高真空磁控溅射仪）是用磁控溅射的方法制备

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进样室极限真空：5.0×10-5Pa 预处理室极限真空：5×10-7Pa 离子清洗源：Φ60；100 ～ 500eV

该设备可以在某些衬底材料上实现外延生长工艺实现分子自组装

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真空室极限真空：≤7×10-5Pa 工作背景真空：≤8×10-4Pa 设备总体漏放率：停泵12小时后，真空度≤10Pa

　　产品简介　　PECVD设备（等离子体增加化学气相沉积PE

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极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa 设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa

　　高真空电阻热蒸发镀膜机（蒸镀机）采用电阻热蒸发技术它是

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矩形工作尺寸的宽度：1000mm 可制备金刚石：φ 650mm 圆形平面工作的尺寸：**大φ650mm

热丝CVD金刚石设备（热丝法化学气相沉积CVD）鹏城半导体技

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极限真空：7×10-5Pa～7×10-6Pa 设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa 恢复工作真空时间短，大气至：7×10-4Pa≤30分钟

　　高真空电子束蒸发镀膜机（电子束蒸镀机）是在高真空条件下

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