一年一度行业盛会，第八届国际第三代半导体论坛（IFWS ）&第十九届中国国际半导体照明论坛（SSLCHINA）于2023年2月7日-10日（7日报到）在苏州金鸡湖凯宾斯基大酒店召开。
在这场被视为“全球第三代半导体行业风向标”的盛会上，由2014年诺贝尔物理奖获得者、日本工程院院士、美国工程院院士、中国工程院外籍院士、日本名古屋大学未来材料与系统研究所教授天野浩，美国工程院院士、美国国家发明家院士、中国工程院外籍院士、美国弗吉尼亚理工大学的大学特聘教授Fred LEE领衔200多个报告嘉宾，紧扣论坛“低碳智联·同芯共赢”大会主题，将在开、闭幕大会、主题分会及同期共计近30余场次活动中，全面展现第三代半导体产业链前沿技术进展及产业发展“风向"。
国际第三代半导体论坛（IFWS）是由第三代半导体产业技术创新战略联盟（CASA）在中国地区举办的、具备较强影响力的第三代半导体领域年度盛会，是引领全球第三代半导体新兴产业发展；届时鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称：鹏城半导体）也受主办方的邀请将携多款真空镀膜解决方案包括热丝CVD金刚石设备、多功能磁控溅射仪、电子束蒸镀设备、等离子体增强化学气相沉积等亮相该会议。
热丝CVD金刚石设备（热丝法化学气相沉积系统）：研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。
设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜、硬质合金基金刚石涂层刀具、陶瓷轴承内孔镀金刚石薄膜等。例如可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉；可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的耐腐蚀金刚石导电电极等。
可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。
平面工作尺寸：圆形平面工作的尺寸：*大φ650mm。
矩形工作尺寸的宽度600mm/长度可根据镀膜室的长度确定（如：工件长度1200mm）。
配置冷水样品台。
热丝电源功率：可达300KW，1KW ～300KW可调（可根据用户工艺需求配置功率范围）
多功能磁控溅射仪（磁控溅射镀膜机）是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。
设备关键技术特点
秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念，我们做了如下设计和工程实现，实际运行效果良好，为用户的专用工艺实现提供了精准的工艺设备方案。
靶材背面和溅射靶表面的结合处理
-靶材和靶面直接做到面接触是很难的，如果做不到面接触，接触电阻将增大，导致离化电场的幅值不够（接触电阻增大，接触面的电场分压增大），导致镀膜效果不好；电阻增大导致靶材发热升温，降低镀膜质量。
-靶材和靶面接触不良，导致水冷效果不好，降低镀膜质量。
-增加一层特殊导电导热的软薄的物质，保证面接触......
电子束蒸镀设备（高真空电子束蒸发镀膜机）是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。
真空性能
极限真空：7×10^-5Pa～7×10^-6Pa
设备总体漏放率：关机12小时，≤10Pa
恢复工作真空时间短，大气至7×10^-4Pa≤30分钟；
小编在此就不一一介绍啦，2023年2月7日-10日在苏州金鸡湖凯宾斯基大酒店与您零距离技术交流与探讨。苏州不见不散！